近日，一家上海国资背景企业已开始生产国产浸没式DUV光刻机，今年计划生产约5部，并向中芯国际、华虹半导体及长鑫存储等内地晶圆厂交付。中国制设备正式导入量产线前，仍需验证精准度、可靠性及兼容性，过程可能需时数月或更长。
知情人士表示，中国制DUV光刻机在性能及制造质素方面仍落后ASML，客户测试结果将用于修正问题及改良设备。该系统大部分零件由中国供应商提供，但部分关键零件仍需依赖日本供应商，本地零件延迟交货亦拖慢今年生产进度。涉事企业整合多家中国公司的浸没式DUV光刻机研发团队，包括国资背景芯片设备公司上海御良升科技。
—— 观点网、彭博社、The Information