中国已建造出极紫外光刻机EUV原型

路透社获悉，在深圳一家高安全级别的实验室内，中国科学家已建成华盛顿多年来试图阻止的东西：一台能生产尖端半导体芯片的机器原型。该原型机于2025年初完工，目前正在进行测试，其体积几乎占据整个厂房地面。两位知情人士透露，该机器由来自阿斯麦的前工程师团队建造，他们对该公司极紫外光刻机（EUV）进行了逆向工程。中国这台机器已可运行并能成功产生极紫外光，但尚未制造出可工作的芯片。通过从二手市场获取旧款阿斯麦设备的零件，中国得以建造国产原型机，政府设定的目标是在2028年前用该原型机制造出可工作的芯片。但接近该项目的人士表示，更现实的目标是2030年。

—— 路透社

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转自: 风向旗快讯