中國已建造出極紫外光刻機EUV原型

路透社獲悉，在深圳一家高安全級別的實驗室內，中國科學家已建成華盛頓多年來試圖阻止的東西：一台能生產尖端半導體晶元的機器原型。該原型機於2025年初完工，目前正在進行測試，其體積幾乎佔據整個廠房地面。兩位知情人士透露，該機器由來自阿斯麥的前工程師團隊建造，他們對該公司極紫外光刻機（EUV）進行了逆向工程。中國這台機器已可運行並能成功產生極紫外光，但尚未製造出可工作的晶元。通過從二手市場獲取舊款阿斯麥設備的零件，中國得以建造國產原型機，政府設定的目標是在2028年前用該原型機製造出可工作的晶元。但接近該項目的人士表示，更現實的目標是2030年。

—— 路透社

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轉自: 風向旗快訊