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中國據報開始小批量生產自主沉浸式深紫外光刻機

2026年07月28日 20:04

作者：弗林

來源：RFI法廣，文章謹供參考，內容並不代表本網立場和觀點。

據科技媒體《信息報》援引消息人士報導稱，一家總部位於的中國公司已開始限量生產沉浸式深紫外。這家公司計劃今年生產5套系統以供交付，預計到2027年生產約20台沉浸式深刻機。

雖然這個數字可能看起來並不大，但它代表了在開發本土深紫外光刻機生產方面作出的重大努力，預計將能減少對荷蘭晶元設備巨頭阿斯麥（ASML）等第三方供應商的依賴。這家上海公司計劃首先向中芯國際、長鑫存儲和華虹交付，並將這些機器集成到它們的生產流程中。該消息發布后，阿斯麥股價下跌了4.6%。

由於事關敏感，相關人士並未透露這家國有背景的製造商的身份。這項突破最終可能會挑戰阿斯麥在的市場地位，但上述系統在性能和可靠性方面仍有不足，在量產前還需要進一步測試，因此目前阿斯麥的優勢依然存在。初期產量將受到限制，今年預計生產約5台沉浸式深紫外光刻機，到2027年預計生產約20台。

沉浸式深紫外光刻機用於將電路圖案印製在矽片上；在相關限制措施切斷了中方對極紫外光刻機（EUV）的獲取途徑后，前者便成了中國所能使用的最先進光刻工具。

中國也在研發國產極紫外光刻機，儘管目前仍處於原型機階段。鑒於正考慮協調盟國對向光刻設備及提供相關維護服務實施更嚴格的限制，本土生產的沉浸式深紫外光刻機有望為提供關鍵設備的替代來源。